二氧化硅抛光液，指以高纯度硅粉为原料制成的一种抛光产品。二氧化硅抛光液具备分散性好、纯度高、抛光效率高、粒径可控、可实现高平坦度加工等特点，在光学镜片、半导体制造、光通讯、显示面板等众多领域需求旺盛。
高纯度硅粉为二氧化硅抛光液核心原材料，占据其较大生产成本。高纯度硅粉制备方法包括化学气相沉积法、等离子体法以及机械粉碎法等。在行业发展初期，受技术壁垒高、生产成本高等因素限制，我国高纯度硅粉高度依赖进口。近年来，随着本土企业持续发力，我国高纯度硅粉市场国产化进程有所加快。2024年我国高纯度硅粉产量达到近55万吨，创造历史新高。在此背景下，我国二氧化硅抛光液行业发展速度有望加快。
二氧化硅抛光液类型多样。按磨料粒度不同，二氧化硅抛光液可分为150nm、20nm、100nm、50nm以及10nm等规格；按照pH值不同，可分为碱性抛光液以及酸性抛光液。碱性抛光液主要用于非金属材料抛光环节，包括光阻材料、氧化物以及硅片等；酸性抛光液具备抛光效率高、溶解能力强等优势，可用于金属材料抛光环节。
二氧化硅抛光液为抛光液市场主流产品，在众多领域需求旺盛，包括光学镜片、半导体制造、光通讯、显示面板等。在光学镜片领域，二氧化硅抛光液可用于望远镜镜片、眼镜镜片以及显微镜镜片加工过程中；在半导体制造领域，其可满足集成电路精细抛光需求；在光通讯领域，其可用于光纤连接器制造环节；在显示面板领域，其可用于OLED以及LCD显示面板制造过程中。
经过多年发展，我国二氧化硅抛光液技术成熟度不断提升，已有多家企业具备其批量生产实力。凯盛科技、金三江、麦丰新材、凌玮科技、朗纳研磨材料、方达研磨技术、科隆股份、鼎龙股份等为我国二氧化硅抛光液主要生产商。
二氧化硅抛光液综合性能优良，应用范围较广。未来伴随市场需求逐渐释放，我国二氧化硅抛光液行业发展速度将进一步加快。目前，我国二氧化硅抛光液生产企业众多，预计未来一段时间，具备高性能产品批量生产实力的企业将占据市场更大空间。