含氟气体分离膜，是气体分离膜的一种，是专业用于含氟气体分离领域的一类膜材料。
　　含氟气体，是工业上应用的成分中含有氟元素的气体，拥有独特的物理、化学性质，在半导体、微电子、新能源、电力、制冷、化工等领域发挥重要作用，例如四氟化碳、六氟乙烷、八氟丙烷可以应用在蚀刻、清洗方面，六氟化硫可以应用在绝缘、灭弧方面，二氟甲烷可以应用在制冷、溶剂方面等。
　　气体分离膜是工业上分离气体的重要手段之一，凭借优良的选择性、不同膜对不同气体分子的不同透过性，利用压力差，可以从复杂成分气体中分离出目标气体。含氟气体通常具有化学活性高、氧化性强、腐蚀性强等特征，采用常规气体分离膜进行分离，会对膜造成氧化、腐蚀，降低了膜的分离效果以及使用寿命，需要采用专业的含氟气体分离膜。
　　受益于半导体、光伏等产业发展推动，全球仅含氟电子特气预计2030年市场规模就将超过54亿美元，因此全球含氟气体产量与需求量持续增长，含氟废气的排放随之增多，而含氟气体的大气寿命较长、GWP值较高，直接排放会对臭氧层造成破坏，并且会降低资源利用效率，因此含氟气体分离膜的开发与应用受到关注。
　　含氟气体分离膜需要具备优良的选择性、渗透性、分离性能、机械强度、热性能、化学稳定性、使用寿命，为实现商业化应用，其还需要具有成本低的优点。目前全球范围内，应用在二氧化碳、氢气等领域的气体分离膜已经实现工业化生产，但含氟气体分离膜研究较少，随着含氟气体应用规模持续扩大，其研究已经成为气体分离膜技术发展的重要趋势之一。
　　2023年8月，山东华夏神舟新材料有限公司公开了一项名为“用于含氟气体分离的聚酰亚胺树脂及其制备方法”的发明专利，制备得到的气体分离膜具有高选择性、高渗透性、耐热稳定性等特点，R32（二氟甲烷）的渗透系数≥100Barrer，对R32/R134a（二氟甲烷/四氟乙烷）的选择系数≥50，可高效回收含氟气体。我国对含氟气体分离膜的技术研究也较少，在半导体、光伏以及氟化工等产业发展的推动下，未来我国含氟气体分离膜研究有望不断增多。